东领科技装备有限公司

关于东领科技

东领科技装备有限公司成立于2021年，工厂位于苏州吴江汾湖科技创业园区，在上海，韩国均设有办事处或子公司，矢志成为领先的半导体工艺所需的CVD/ALD设备的制造公司，服务全球客户。

作为芯片制造工艺的设备企业，东领科技拥有独立自主的知识产权，聚焦于CVD/ALD设备的研发、生产和销售，是目前国内少数可以提供高端CVD/ALD设备的半导体公司。

服务全球客户
领先的技术
优秀研发团队

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产品中心

Product center

Thermal ALD-SiN设备

原子层沉积(ALD)是一种薄膜制备技术，可以将物质以单原子膜形式一层一层镀在基底表面。在镀膜过程中，两种或更多的化学气相前驱体依次在基底表面发生化学反应从而产生固态的薄膜。原子层沉积系统采用一种横流式反应腔，在该反应腔内有惰性载气穿过，前驱体通过极短的脉冲注入到这个惰性载气中。惰性载气携带着前驱体脉冲作为一种有序“波”依次通过反应腔，真空泵管路，过滤系统，并最终通过真空泵。在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。

应用领域

Application

广泛服务于光纤通信、光纤传感、移动通讯、石油勘测与基站、卫星通讯、雷达通讯、航空航天、微波-光电通讯、光电子、高能物理、生物医疗等领域！

光电通信

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卫星通讯

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生物医疗

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航天航空

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新闻资讯

News and information

东领科技装备首台ALD设备正式出厂助推半导体产业

今天（9月23日），东领科技装备有限公司首台ALD原子层化学薄膜沉积及氮元素注入设备正式出厂，标志着汾湖高新区半导体产业

26 2022-09: 东领科技装备首台ALD设备正式出厂助推半导体产业

今天（9月23日），东领科技装备有限公司首台ALD原子层化学薄膜沉积及氮元素注入设备正式出厂，标志着汾湖高新区半导体产业

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